Park NX10 仕様
スキャナ
Z スキャナ
フレクチャーガイド式高力スキャナ
スキャン範囲：5 µm (オプションにて30 µm)
ハイト（高さ）ノイズレベル： 30 pm
0.5 kHz bandwidth, rms (typical)
XY スキャナ
クローズドループ制御付きシングルモジュールのフレクチャー式XYスキャナ
スキャン範囲 : 50 µm × 50 µm
(オプションにて10 µm x 10 µm、もしくは100 µm x 100 µm)
ステージ
Zステージ駆動距離：25 mm (電動)
フォーカスステージ駆動範囲：15 mm (電動)
XYステージ駆動範囲：20 mm x 20 mm (電動)
サンプル
サイズ：最大100mm×100mmのオープンスペース、 厚さ最大20 mmまで
重量 : 500 g
光学系
10x (0.23 N.A.) ウルトラロングワーキングディスタンスレンズ（分解能：1µm）
サンプル表面とカンチレバーの直上観察対物レンズ
視野：480 µm × 360 µm（10x対物レンズ使用の場合）
CCDピクセル：1 Mピクセル, 5 M ピクセル（オプション)
ソフトウェア
SmartScan™
AFMシステム制御、およびデータ取得ソフトウェア
すばやいセットアップと簡単なイメージングのための自動モード
よりエキスパートな用途と詳細なスキャン制御のためのマニュアルモード
XEI
AFMデータ解析ソフトウェア
エレクトロニクス
内蔵機能
デジタルロックインアンプ4チャンネル
バネ定数キャリブレーション (サーマル方式、オプション)
デジタルQコントロール
外部信号アクセス
組込み信号入出力20ポート
TTL出力5系統：EOF, EOL, EOP, モジュレーション、ACバイアス
力測定
フォースディスタンス（F/d）スペクトルスコピー
フォースボリュームイメージング
誘電・圧電特性
静電気力顕微鏡（EFM）
ダイナミックコンタクトEFM(EFM-DC)
圧電応答力顕微鏡（PFM）
高電圧PFM*
機械特性
フォースモジュレーション顕微鏡（FMM)
ナノインデンテーション*
ナノリソグラフィー*
高電圧ナノリソグラフィー*
ナノマニピュレーション*
磁気特性*
磁気力顕微鏡（MFM）
チューナブルMFM
電気特性
コンダクティブAFM（C-AFM）*
IVスペクトルスコピー*
ケルビンプローブフォース顕微鏡（KPFM）
走査型キャパシタンス顕微鏡（SCM）*
走査型拡がり抵抗顕微鏡（SSRM）*
走査型トンネリング顕微鏡（STM）*
フォトカレントマッピング（PCM）*
化学特性*
化学力顕微鏡（機能化チップ付）
EC-AFM
AFMオプション
温度制御
温度制御ステージ 1
-25 °C ~ +170 °C
温度制御ステージ 2
常温 ~ +250 °C
温度制御ステージ 3
常温 ~ +600 °C
液体セル
ユニバーサル液体セル
液体/気体灌流によるオープンまたはクローズド液体セル
温度制御範囲：0 °C ~ +110 °C （大気中）、 4 °C ~ +70 °C（液中）
電気化学用セル
オープン液体セル
液中プローブハンド
酸を含むほとんどの緩衝液に耐性あり
液体中のコンタクト・ノンコンタクトAFMイメージング
磁界発生装置
サンプル表面に平行な外部磁界を印加
チューナブル磁場
レンジ：-300 ~ 300 gauss
純鉄コアと2つのソレノイドコイルで構成
外形寸法図（単位：mm）
